陈远喆虽然不算内行。

    但是，作为身为声名远扬的投资界大佬，对于光刻机还是知道一二的。

    就因为知道，所以此刻才显得如此震惊。

    双重曝光光刻技术是指在光刻胶覆盖的晶片上分别进行两次曝光。

    两次曝光是在同样的光刻胶上进行的，但使用不同的掩模版。

    相比于紫外光刻技术，整整领先了一代。

    而目前，全球知名半导体企业，所用的，还只是紫外光刻。

    这玩意，明明还在试验阶段，陆一鸣是怎么搞到手的？

    陈远喆心里很明白，就算是自己，不，就算是自己背后的高盛，也没有这样通天的手段。

    将双重曝光光刻机给搞到手？

    怎么听起来这么邪乎呢？

    看来，自己需要重新定义一下陆一鸣的能量了。

    “陆。。。陆总，您确定，您没有开玩笑？真的是双重曝光光刻机？”

    此时的樊东，说话都有些不利索。

    这。。。

    国内就不提了，国外大厂使用的，也不过是1980年左右面世的紫外光刻。

    樊东在麻省理工的时候，在导师的带领下，参与过双重曝光光刻的研究与运>> --