验工厂的产能和投资总额都不算高，可总投资上十亿还是没有问题的，毕竟只一台先进光刻机就价值上千万美元了，蜂心还打算上碳管试验项目，总投入根本小不下来。

    要不是类似euv极紫外光刻机这种单台一亿美元的奢侈品老美不让as公司往国内卖，其他先进配套设备大致也是如此，导致想花钱也没地方花，蜜蜂的设备采购费用也不至于这么“便宜”。

    光刻机的工作能力决定了芯片的工艺制程，而作为“雕刻”芯片电路的那把“刀”，蚀刻光源的波长严重影响它的加工能力。

    目前国际上主流的光刻机普遍使用193纳米波长的紫外线光源，其之所以能够加工6545甚至14纳米的硅晶圆，却是因为使用了折射率更好的镜头，并且把硅晶圆浸泡在高折射率的浸没液体里面，因此称之为浸没式光刻系统。

    而下一代光刻机则使用波长13.5纳米的极紫外线作为工作光源，有望将半导体制程推进到1o纳米以下，唯一的问题是波长越小光子的能量就越大，相应的穿透作用电离作用也就越明显，像是有用又有害的x光就是波长小于1o纳米的电磁波。

    euv是如此的高能，以至于光源造出来了，配套的掩膜覆膜材料却没能跟上，导致下一代光刻始终无法实用化。

    虽然inte1ib有a等传统cpu巨头，早在几年前就号称要进军1o纳米，但因为euv“太给力”到现在还都没有实现，依然在14纳米制程打转，结果被三星和台积电弯道追车赶了上来。

    不过江湖传闻，他们的14/16纳米其实是2o纳米finfet，三丧为了搞个大新闻故意在纸面上升级了一下数据，然后台积电高通和苹果为了各自利益，纷纷保持默契言必称14/16纳米。

    蜂心实验工厂也是以这些先进制程为目标，但是投产时间可就不好说了。

    不过对于地方上来说这都不重要，不论它将来能否展壮大成为一家一流芯片厂，只要投资落地就是顺利。这样的项目不管成功与否，都能起到锻炼队伍的作用，毕竟高标准无尘厂房建设与高精密设备安装还是很难得的特别是这个掏钱的人还不是自己，那就更加值得争取了。

    当然，要是蜜蜂也学某些先进单位，要求地方提供大额配套，甚至还要求贷款垫资自己只提供一套牌子，最终却快快乐乐玩起了房地产，肯定早就被负分滚粗了。

    不过嘛，投资小产量低，一线四强的兴趣就不怎么大了，只有下面区县过来意思了一下，真正上心的还是一众二三线城市。各自决心都很大，不但找蜂心半导体的管理层加以游说，蜜蜂董事会特别是马竞这个大股东，也是他们攻关的重点对象，最后把马竞夫妇弄得烦不胜烦干脆躲回老家。

    要不是马竞早有言明，过年期间不谈工作，这会儿肯定还会有人追到这边来。

    (本章完)>> --