，笑了，“谢谢！”

    抽了一张纸巾擤擤鼻涕后，他吸了吸鼻子，脸上却浮现起坚毅的神情，“需要我做什么？”

    卿云递过去一张照片，“后天，荷兰有一个半导体行业的峰会，我用炎黄集团的名义搞到了一张邀请函。

    你在明珠港转机的时候，会遇见他，杀了他。”

    程进闻言皱起了眉头，“怎么是他？”

    他的疑惑有很多，比如怎么杀，杀了之后他又该如何，当场自杀？

    但相比起照片上的人而言，这些都是细枝末节了。

    在他看来，这太不可思议了。

    云帝乜了他一眼，“认识？”

    程进回了一个白眼，“废话！我也是干这行的！虽然我确实水了点，但我毕竟是做科研的，行业领域内什么新动向我还是知道的。”

    他手指点了点照片，“林本坚，夷积电高级工程师，在当前193nm光刻光源停滞了二十多年无法突破下，去年提出了浸入式光刻技术，算是一个另辟蹊径的发展方向。”

    说到这里，他摇了摇头，“但是，他的理论，并不被当前的市场所接受。去年提出的时候，没有市场买单。

    现在的路径一共四大阵营，尼康占主导的157nm激光、因特尔bmd摩托骡拉联合的13.5nmeuvllc、nec托西巴ntt和ibm联合的1nm接近式x光、朗讯贝尔实验室高的0.004nmepl和0.00005nmipl。

    后面两个算是浪漫阵营，纯理论研究，他们就没想过产业化的事情。

    而euv太超前，短期内根本无法实现。

    我个人还是更看好尼康的干式157nm技术路径。”

    卿云笑了，他懒得和程进扯什么科学英雄史观的问题，更没兴趣和他聊技术路径路径，开口说道，

    “荷兰的asml正在和林本坚一起共同攻坚浸入式光刻技术。”

    程进闻言摇了摇头，“没用的，浸入式通过水滴折射确实可以跳过157nm，直接做到134nm波长，而后就会被65nm的最高生产分辨率给卡住，到时候怎么办？

    小卿，光刻是要遵循瑞利公式的，λ为光源波长、na为数值孔径、k为光刻工艺系数，三者共同决定投影式光刻机分辨率cd。

    光刻机的分辨率与光源波长成正比，想要制造出更小的尺寸，就需要缩短光源的波长，这也是光刻机世代演变的核心。

    所以，你不管怎么折射，最终还是要通过光源的波长来解决问题。”

    熟知后事的卿云很清楚，程进说的是对的。

    浸入式、浸没式、浸润式，其光源都是193nm激光器，随后是根据瑞利公式的另一个参数：孔径，来实现精度的提高。

    再之后，便是二次曝光技术，同样是基于193nm的光源。

    而最终，在duv后，asml还是走了波长13.5nm的euv路径。

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