p;光刻机工艺突破到40nm，加上屏下指纹技术成熟，周新知道matrix再次给世界带来震撼的时候到了。

    “林叔，这两年辛苦了，新芯光刻机的成功能让业界重新认识新芯。

    新芯光刻机也是时候改变现有格局了。”他们四个都不喝酒，晚上喝茶会睡不着，所以大家杯子里都是水，周新连杯子都没有举，纯在干聊。

    林本坚很感慨：“我虽然知道这条技术路线一定可以，我从来没有怀疑过自己。

    但是真正在做出来的这一刻，还是让我很感慨，有种自己人生四十年的坚持终于获得了回报。”

    林本坚在离开ibm之后，他是属于被ibm内退，因为他所坚持的技术路线不被ibm光源这个研究方向的负责人看好，有点被赶出来的意思。

    在场的四个人里，只有胡正明还好，伯克利一直对他不错，其他三个人多多少少都有点办公室政治斗争的失败者。

    在成功研发浸润式光刻机之后，林本坚的职业生涯迎来了某种程度上的圆满。

    周新说：“我一直相信这一点，新芯天生具备成功的基础。

    和asml相比，我们有着芯片生产的制造环节，这种优势让我们在测试浸润式的时候更有优势。”

    梁孟松作为去年才加入新芯的新人，因为其在台积电的战绩惊人以及胡正明学生的身份，周新给予了他很大的信任，几乎是加入新芯后的第一时间就让他担任了新芯芯片制造环节的负责人。

    同时因为梁孟松身上有竞业协议，新芯为他缴纳了高达两千万美元的巨额违约金。

    梁孟松加入后也不孚众望，短短半年时间让新芯在90nm制程中再度实现技术突破和良品率的提升。

    同时他加入后一手主导了新芯在狮城65nm生产线的建设，目前也即将投产。

    林本坚说：“主要还是这条路线确实可行，路线可行，只要投入时间和足够的资源迟早能够看到成果。

    我们算是比较幸运的了，能够赶在尼康和佳能在做出157nm光源前顺利完成浸润式光刻机的研发。”

    新芯选择的是后世asml的技术路线，也就是浸润式光刻机，而尼康、佳能包括asml在当下，都选择的是研究波长更短的光源。

    后世在asml推出浸润式光刻机，成功把芯片制程推进到40nm之后不久，尼康就顺利研发出来了基于157nm光源的干式光刻机。

    可惜太晚了，那个时候asml已经占据了40nm光刻机的主流市场，尼康一步慢步步慢，丧失了整个光刻机市场。

    现在是最好的时间，光源还没有实现突破，新芯已经率先实现突破，直接绕过了65nm进入到40nm制程。

    胡正明说：“我们速度需要快，尽可能快的推向市场。

    同时我们要把新芯的光刻机推销出去，之前新芯虽然做光刻机，但是在全球市场上并没有我们的名号。

    只有华国的芯片制造厂商们会选择我们的产品，霓虹、高丽、阿美利肯这些地方的芯片生产厂商们出于尝试会买个一台去看看效果。

    他们在买过>> --