没错，就是化学试验用的那种滴管，一点儿都不高大上，但是对于高振东这个光刻机来说够用了。

    滴管天生就有不太精确的计量功能，例如一毫升水大概是15滴，总之就是当液体的粘稠度确定的话，那从滴管滴出来的每滴液体的体积基本上是一致的，换支滴管也是一样，只要是正常的滴管都一样。

    多余的光刻胶会被旋转的硅片给甩出去的，这也是旋涂的优点。

    马娟往旋转的硅片中心滴了一些光刻胶，光刻胶很快随着旋转，沿着硅片表面匀开来，非常均匀，仿佛不存在一样。

    这也是托光刻胶和硅片的粘附性很好的福，否则在上光刻胶之前，还得上一遍衬底，以加强光刻胶的附着。

    硅片缓缓停止旋转，此时，工件台再次开始对硅片进行加热，这是在固化光刻胶。

    固化完成后，马娟开始按动电钮，调整工件台，将硅片置于光学系统下的合适位置。

    虽然高振东要求东北光学所的同志搞的是160mm直径的投影范围，不过考虑到拉晶的成品率，以及光学系统的最大畸变出现在最边缘的原因，现在还是将硅片的规格定在了130mm，也就是大概5英寸的样子，不过这是我们的原生工艺，自然就不会用英寸作为硅晶圆的计量单位。

    作为最早最原始的光刻机，高振东使用的却并不是最原始的接触式光刻，这种方式硅片和掩模直接接触，分辨率比接近式要高。

    但接触式光刻，硅片上的光刻胶或者个别灰尘，会污染和损坏掩模，用来搞研究可以，搞批产不太好。

    他跨过接触式光刻，使用了接近式光刻，实际光刻的时候硅片和掩模之间有一个极小的距离，在10μm这个数量级，这样就可以避免掩模的损坏了。

    坏处嘛，接近式光刻的分辨率比接触式的要差，最好的情况，大概在2μm的样子，这对于高振东现在来说是够用的。

    使用接近式光刻，掩模和工件是分开的，这对于搞自动化光刻是有利的，这就是高振东将掩模放进光学系统的原因，掩模在光学系统里基本不动，运动的是工件台。

    找平之后，工件台控制硅片向掩模接近，最终达到设计中所设定的距离——20μm。

    这一次不用太过仔细>> --